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有机废气关键来自光刻技术、显影液、离子注入及外扩散等工序,在这种工序时要用有机化学水溶液(如等保)对芯片表层开展清理,其蒸发造成的废气是有机废气的来源于之一:另外,在光刻技术、离子注入等过程中应用的光阻剂(光刻技术)中带有容易挥发的溶剂,如---丁酯等,vocs一企一策综合整治方案代办,在芯片解决过程中也要蒸发到空气中,开平市vocs一企一策综合整治方案,是vocs废气造成的又一来源于。
封裝指从芯片上激光切割单独集成ic到终包裝的一系列流程。封裝加工工艺造成的废气比较简单,主要是酸性气体、环氧树脂胶及。酸碱性废气关键造成于电镀工艺等加工工艺;烤制废气则造成于晶体黏贴、上胶后烤制过程;划片机在芯片激光切割过程中,造成含少量砂尘的废气。
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小玩具喷漆制造行业vocs整治项目简介
某文具厂以便回应地方---关于节能减排的规定,另外也以便---的执行企业社会责任,欲增加废气处理设备,对所造成的废气开展集中化运输。在做到---家及地区有关环境保护政策法规的标准的另外,vocs一企一策综合整治方案申请,也的---废气对自然环境的环境污染。vocs一企一策综合整治方案
计划方案具体描述
此次计划方案加工工艺采用系列产品|沸石转轮+co。设计方案沸石转轮解决排风量3800b2503/h;转轮浓缩倍率10倍,沸石吸咐90%;co炉产出量为:3500nm3/h,点燃98%。该新项目每日工作中11h;年工作中312天。vocs一企一策综合整治方案
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光催化反应工艺基本原理及步骤
ti02做为一种半导体器件其本身的光学特点决策了它能够 作为纳米二氧化钛。半导体材料的可带构造一般是一个电子器件添充低动能价带(vb)和一个空的能量的导带(cb),导带和价带中间的地区被称作禁带。vocs一企一策综合整治方案
当直射半导体材料的光动能相当于或超过带隙时,其价带电子器件被激起,越过禁带进到导带,并在价带中造成相对空化。电子器件从价带激起到导带,激起后分离出来的电子器件和空化都是有一部分进一步开展反映。vocs一企一策综合整治方案
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